| 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪一家企业，合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。
EUV 光刻技术是多种先进技术的复合体，例如多层反射镜，多层掩模，防护膜，光源和注册表(registries)。 在过去的十年中，包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发，以确保技术处于领先地位。最近，代工公司(意指三星)开始使用 5 纳米 EUV 光刻技术来生产智能手机的应用处理器(AP)。 按公司划分，全球六大公司的专利申请数占了总数的 59%，卡尔蔡司(德国)占 18%，三星电子(韩国)占 15%，ASML(荷兰)占 11%，S&S Tech(韩国)占 8%，台积电(台湾)为 6%，SK 海力士(韩国)为 1%。 从具体的技术项目来看，曝光装置技术申请专利占 31%，掩膜技术申请专利占 28%，其他申请专利占 9%。在工艺技术领域，三星电子占 39%，台积电占 15%。在光罩领域，S&S 科技占 28%，Hoya(日本)占 15%，汉阳大学 (韩国)占 10%，朝日玻璃 (日本)占 10%，三星电子占 9%。 IT之家了解到，韩媒还提到了韩国专利数量，据韩国知识产权局 (KIPO)发布的《近 10 年 (2011-2020 年)专利申请报告》显示，2019 年，韩国提交的专利申请数量为 40 件，超过了国外企业的 10 件。 韩媒称这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。到 2020 年，韩国提交的专利申请也将是国外企业申请的两倍以上。 |
